露光装置

Aligner

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an aligner used in a photolithographic process for manufacturing a semiconductor device, a liquid crystal display or a thin-film magnetic head by which an installation space is reduced and the throughout is enhanced. SOLUTION: An aligner is provided with a wafer holder 30, on which a transferred wafer 6 is placed and wafer state systems 12 and 14 for holding the wafer holder 30 which are movable on a two-dimensional plane and exposes the wafer 6 to light through a pattern image on a reticule 1. The aligned is also provided with a wafer edge observing microscope 50 for moving the wafer stage systems 12 and 14, sequentially putting a plurality of specified wafer edge parts on the wafer 6 in an observation field of view and detects the position of the wafer 6 on the wafer holder 30. COPYRIGHT: (C)1998,JPO
(57)【要約】 【課題】本発明は、半導体装置、液晶表示装置、あるい は薄膜磁気ヘッドなどを製造する際のフォトリソグラフ ィ工程で用いられる露光装置に関し、装置の設置面積が 小さく、またスループットを向上させた露光装置を提供 することを目的とする。 【解決手段】搬送されたウェハ6を載置するウェハホル ダ30と、ウェハホルダ30を支持して2次元平面を移 動可能なウェハステージ系12、14とを有し、レチク ル1上のパターンの像をウェハ6上に露光する露光装置 において、ウェハステージ系12、14を移動させてウ ェハ6の所定の複数のウェハエッジ部の形状を順次観察 視野内に入れて、ウェハホルダ30上でのウェハ6の載 置位置を検出するウェハエッジ部観察顕微鏡50を備え るように構成する。

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